Geeignet für ISO-4-Reinräume (Cleanliness Class 10)
ESD-ableitend zur kontrollierten Reduzierung elektrostatischer Aufladung
Extrem niedrige Partikel- und Faserabgabe
Low-Lint-Ausführung für kritische Reinraumanwendungen
Präzisionsspitze für enge Zwischenräume und filigrane Strukturen
Formstabiler Schaft für kontrollierten Anpressdruck
Hohe Reinigungsgenauigkeit durch homogene Materialstruktur
Chemisch kompatibel mit IPA und gängigen Reinigungsmedien
Technische Daten
Material
Schaumstoff
Anzahl
100 St.
Verwendungszweck
Präzisionsreinigung in ISO-4-Reinräumen
Inhalt
100 St.
Abm.
(L x B) 77 mm x 3.2 mm
Breite
3.2 mm
Länge
77 mm
UKCA
nicht relevant
Beschreibung
Dieser ESD-fähige Cleanroom Tupfer wurde für präzise Reinigungsprozesse in hochklassifizierten Reinräumen (ISO 4 / Cleanliness Class 10) entwickelt. Durch die definierte Geometrie, kontrollierte elektrostatische Eigenschaften und eine extrem niedrige Partikelabgabe eignet sich der Tupfer ideal für punktgenaue Reinigungsarbeiten an empfindlichen Komponenten und schwer zugänglichen Bereichen.
Anwendungsbereiche • Präzisionsreinigung in ISO-4-Reinräumen • Reinigung von Mikrobauteilen und feinmechanischen Komponenten • Steckverbinder, Kontakte und Sensorbereiche • Optische Komponenten und empfindliche Oberflächen • Schwer zugängliche Bereiche mit höchsten Reinheitsanforderungen
Ausführung
Gesamtlänge: 77 mm
Spitzenlänge: 11 mm
Schaftdurchmesser: 2,4 mm
ESD gerecht: ja
Durchmesser (Spitze): 3,2 mm
Beschreibung
Dieser ESD-fähige Cleanroom Tupfer wurde für präzise Reinigungsprozesse in hochklassifizierten Reinräumen (ISO 4 / Cleanliness Class 10) entwickelt. Durch die definierte Geometrie, kontrollierte elektrostatische Eigenschaften und eine extrem niedrige Partikelabgabe eignet sich der Tupfer ideal für punktgenaue Reinigungsarbeiten an empfindlichen Komponenten und schwer zugänglichen Bereichen.
Anwendungsbereiche • Präzisionsreinigung in ISO-4-Reinräumen • Reinigung von Mikrobauteilen und feinmechanischen Komponenten • Steckverbinder, Kontakte und Sensorbereiche • Optische Komponenten und empfindliche Oberflächen • Schwer zugängliche Bereiche mit höchsten Reinheitsanforderungen